Datei:Photoresist spin coating.jpg
Originaldatei (3.452 × 1.594 Pixel, Dateigröße: 1,82 MB, MIME-Typ: image/jpeg)
Beschreibung
| Beschreibung |
English: Photoresist during spin coating on silicon wafer Polski: Fotorezyst w trakcie rozwirowywania na podłożu krzemowym |
| Datum | |
| Quelle | Eigenes Werk |
| Urheber | Sei |
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| aktuell | 16:14, 26. Nov. 2014 | Kein Vorschaubild vorhanden | 3.452 × 1.594 (1,82 MB) | wikimediacommons>Sei~commonswiki | User created page with UploadWizard |
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