Datei:Photolithographie 3 - après développement.png
Originaldatei (698 × 210 Pixel, Dateigröße: 5 KB, MIME-Typ: image/png)
Beschreibung
| Beschreibung |
English: Step 3: Wafer with developped photoresist
Français : Troisième étape: développement du photorésist |
| Datum | 08/09/2008 |
| Quelle | Eigenes Werk |
| Urheber | Rhadamante |
Lizenz
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| Version vom | Vorschaubild | Maße | Benutzer | Kommentar | |
|---|---|---|---|---|---|
| aktuell | 03:57, 9. Sep. 2008 | Kein Vorschaubild vorhanden | 698 × 210 (5 KB) | wikimediacommons>Rhadamante | {{Information |Description={{en|1=Step 3: Wafer with developped photoresist}} {{fr|1=Troisième étape: développement du photorésist}} |Source=travail personnel (own work) |Author=Rhadamante |Date=08/09/2008 |Permission= |other_versi |
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