Datei:Micro-Pillar.jpg
Originaldatei (4.096 × 3.775 Pixel, Dateigröße: 7,82 MB, MIME-Typ: image/jpeg)
Beschreibung
| Beschreibung |
English: Inductively Coupled Plasma - Deep Reactive Ion Etching (ICP-DRIE) of micro-pillars in silicon. The Bosh-processed typically used in these machines leads to very fine grooves also called scallops. They are clearly visible in this SEM image. What can also be seen is the etch angle of the process leading to a smaller width at the bottom. |
| Datum | |
| Quelle | Eigenes Werk |
| Urheber | Mgerlt |
Lizenz
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| aktuell | 16:37, 13. Dez. 2019 | Kein Vorschaubild vorhanden | 4.096 × 3.775 (7,82 MB) | wikimediacommons>Mgerlt | User created page with UploadWizard |
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