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Datei:Filling with hazardous reagents for the atomic layer growth process.jpg

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Originaldatei (960 × 1.280 Pixel, Dateigröße: 157 KB, MIME-Typ: image/jpeg)

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Beschreibung

Beschreibung
English: Technicians wearing protective cleanroom suits and respirators during the loading of hazardous chemical precursors into a plasma-enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) system. The process is part of the preparation for depositing ultrathin functional films under controlled cleanroom conditions, ensuring operator safety and contamination control.
Datum
Quelle Eigenes Werk
Urheber R Ashurov

Lizenz

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w:de:Creative Commons
Namensnennung
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Kurzbeschreibungen

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Filling with hazardous reagents for the atomic layer depisition (ALD) process

161.006 Byte

1.280 Pixel

960 Pixel

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4a396076312f73e885ca255487445b26516a60a8

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aktuell17:25, 27. Nov. 2025Vorschaubild der Version vom 17:25, 27. Nov. 2025960 × 1.280 (157 KB)wikimediacommons>R AshurovUploaded own work with UploadWizard