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Datei:Etching wet-chemical vs rie (DE).svg

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Originaldatei (SVG-Datei, Basisgröße: 768 × 1.024 Pixel, Dateigröße: 38 KB)
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Beschreibung

Beschreibung
English: Comparison process between wet-chemical etching and reactive ion etching (RIE) of silicon dioxide
Deutsch: Vergleich der Siliciumdioxid-Ätzprozesse zwischen nasschemischen Ätzen und reaktiven Ionenätzen (RIE)
Datum (UTC)
Quelle Eigenes Werk
Urheber Cepheiden
Andere Versionen replication of/Kopie nach: Gary S. May, Simon M. Sze: Fundamentals of Semiconductor Fabrication. Wiley & Sons, 2003, ISBN 0471452386, S. 90


Lizenz

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Kurzbeschreibungen

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In dieser Datei abgebildete Objekte

Motiv

etching

Dateigröße

38.948 Byte

MIME-Typ

image/svg+xml

Prüfsumme

f91c9a349d937edff86c3ae204c0b44ff9e9ace2

Bestimmungsmethode oder -standard: SHA-1

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aktuell16:44, 11. Apr. 2026Kein Vorschaubild vorhanden768 × 1.024 (38 KB)wikimediacommons>思考的苇丛File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for zh.

Metadaten

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