Datei:Dry etching test strucutres.jpg
Originaldatei (4.096 × 3.775 Pixel, Dateigröße: 7,19 MB, MIME-Typ: image/jpeg)
Beschreibung
| Beschreibung |
English: SEM picture of Inductively Coupled Plasma - Deep Reactive Ion Etching (ICP-DRIE) in silicon. The picture depicts a test structure that was used to test several process parameters. |
| Datum | |
| Quelle | Eigenes Werk |
| Urheber | Mgerlt |
Lizenz
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