Datei:CMOS fabrication process.svg
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Originaldatei (SVG-Datei, Basisgröße: 512 × 2.176 Pixel, Dateigröße: 7 KB)
Beschreibung
| Beschreibung |
English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale. |
| Datum | |
| Quelle | Eigenes Werk |
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| Version vom | Vorschaubild | Maße | Benutzer | Kommentar | |
|---|---|---|---|---|---|
| aktuell | 18:29, 9. Okt. 2011 | | 512 × 2.176 (7 KB) | wikimediacommons>Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is |
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